费的时间都不提，不说国内，国外有相关的人能做出来吗？”
“所以从始至终我们都只有一个选择，图像光刻系统都不能改，我们只能想办法让自由度必须足够保证精度和精度贯穿整个新材料厚度的特征尺寸”
王文亮听后也停下了手中的动作，如果不允许更改那就难了，就在这时王文亮突然想到了什么。
“吴总，既然每一个低密度光刻图案的特征尺寸相比双光束中任意一束光单独投影光刻时变小”
“而且每一个低密度光刻图案特征分辨率不低于两束光中最长波长所对应的经典光学阿贝衍射极限尺寸”
“那么我们是不是可以通过控制光波长短来达到所要求的精度呢？”
吴枫思考了一下然后眼睛一亮，看向王文亮说道：“不错，继续说”
“我的想法在于，两束光经过各自掩膜版调制形成的图案在光强上各自归一化之后，制造光归一化光强为1的位置，辅助光归一化光强为0”
“制造光在其衍射边缘归一化光强为0到1之间的某个值i时，辅助光归一化光强为1i”
“制造光归一化光强为0的位置，辅助光的归一化光强为0到1之间的任意值”
“基于阴阳文互补掩膜版的投影光刻中产生阴阳文互补光强图案的方式可以用如下的一种：强度型掩膜版，相位型掩膜版，偏振型掩模版以及强度、相位和偏振混合型掩膜”
吴枫大脑极速转动，在脑海中计算着，片刻后看着王文亮十分惊喜。
“当前芯片制程已经到了7纳米甚至5纳米，摩尔定律延续无法摆脱，但你的想法甚至有可能突破”
王文亮羞涩的摸了摸头说道：“只是一个想法，能不能成我还不清楚而且造价可能很贵”
“当前一台第五代极紫外光刻机售价已经高达1亿欧元，所用光源也已经采用了波长仅为13.5纳米的软x射线”
“在这个基础上进一步升级光刻分辨率，如继续沿用国际现有紫外光刻机技术路线，仍然采用直接或间接缩短所用光源波长的方法，将进一步提升难度和整体价格”
吴枫忍不住想敲他一下，明显王文亮是钻进牛角尖了。
“我们为什么要造光波控制器，改为投影式超分辨光学数据的写入\/读出不行吗？”
“这样一来造价也就大幅度缩减”
“阴阳文互补掩膜版的投影式超分辨光学数据存储技术可以应用于光刻，而且实验室就支持做出来”
“谈不上什么造价，几乎要不了什么钱，看你挺聪明的，在这时候怎么变笨了”
王文亮听完也直呼内行，只是转变了一下方式，却让造价从几亿欧元变千百来块人民币就能做。
虽然构思是自己想出来的，但是吴枫的想法却更加完美，投影式和直刻式相比在精度上并不差。
甚至在速度上还要更胜一筹。
“吴总，你真快！”
吴枫满头问号，随后面色不善的看着王文亮。
“我说的是脑子，您别误会！！！”
第70章 投影式图像系统[2/2页]